氧化铪的作用
佳美机械李泽18509857587氧化铪（HfO₂）的核心作用是作为高性能介电材料，主要用于半导体芯片制造，替代传统二氧化硅以缩小器件尺寸、提升性能。
其关键应用场景集中在以下领域：
• 半导体工业：作为晶体管的栅极介电层，解决传统二氧化硅过薄导致的漏电问题，是7nm及以下先进制程芯片的核心材料之一。
• 光学领域：因具有高折射率和良好的化学稳定性，用于制作高端光学涂层，如抗反射膜、高功率激光镜片的保护膜。
• 陶瓷材料：可制备耐高温、高强度的陶瓷部件，用于航空航天发动机或核工业的极端环境中。
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